干燥设备对于纳米复合抗菌材料升级！

    无机抗菌材料的代表材料为光催化半 导体抗菌材料，应用较多的有TiO2、ZnO、ZnS和MnO2 等。ZnO作为半导体氧化物纳米材料，更容易产生活 性氧基团，3.37 eV的禁带宽度和60 meV的激子结合能 使其具有较高的光谱利用率 。TiO2作为常见的氧 化物抗菌材料，其小尺寸效应和大的比表面积使其在 医药、涂料、化妆品等领域均有应用 。YXQ-50G立式压力蒸汽灭菌锅，浙江纳 德科学仪器有限公司；DHG-9145A电热鼓风干燥箱， 上海一恒科学仪器有限公司；VD-850超净工作台，上 海辰邦西仪器有限公司；SPX-150B恒温培养箱，山东 格蓝普物联科技有限公司；XL-2000马弗炉，泰安市 宇成矿用设备有限公司；FY-GHX1型光催化仪（光源 为250 W的氙灯），杭州菲跃仪器有限公司。

    通过与ZnO进行复 合之后，本质上对ZnO是一种修饰作用，不仅增加了 ZnO表面的催化活性点位，也增大了ZnO的比表面积， 形成新的窄带隙半导体，可达到扩宽复合材料对可见 光的应用，提高其光生载流子的分离效率，从而实现 增大复合抗菌材料的抗菌能力。适量TiO2的添加修饰 能够发挥出复合抗菌材料的最大作用。